Al掺杂ZnO薄膜的射频磁控溅射工艺与光电性能研究

刘心宇, 江民红, 周秀娟, 成钧, 王仲民

材料工程 ›› 2008, Vol. 0 ›› Issue (10) : 215-218.

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"2008第七届中国国际纳米科技(武汉)研讨会"论文专辑

Al掺杂ZnO薄膜的射频磁控溅射工艺与光电性能研究

    {{javascript:window.custom_author_cn_index=0;}}
  • {{article.zuoZhe_CN}}
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RF Magnetron Sputtering Process and Photoelectric Property of Al Doped ZnO Films

    {{javascript:window.custom_author_en_index=0;}}
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{{article.zuoZheCn_L}}. {{article.title_cn}}[J]. {{journal.qiKanMingCheng_CN}}, 2008, 0(10): 215-218
{{article.zuoZheEn_L}}. {{article.title_en}}[J]. {{journal.qiKanMingCheng_EN}}, 2008, 0(10): 215-218
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{{article.reference}}

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{{article.copyrightStatement_cn}}
{{article.copyrightLicense_cn}}
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