退火温度对Ge/SiO2多层膜的结构和光学性能的影响

彭洁, 李子全, 刘劲松, 蒋明, 许奇

材料工程 ›› 2014, Vol. 0 ›› Issue (9) : 32-38.

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材料工程 ›› 2014, Vol. 0 ›› Issue (9) : 32-38. DOI: 10.11868/j.issn.1001-4381.2014.09.006
材料与工艺

退火温度对Ge/SiO2多层膜的结构和光学性能的影响

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Effect of Annealing Temperature on Structure and Optical Properties of Ge/SiO2 Multilayer Films

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