SiCf/SiC复合材料残余应力的形成机制、表征技术及调控规律

唐舒洋, 杨洋, 张宏业

材料工程 ›› 2026, Vol. 54 ›› Issue (5) : 167-183.

PDF(4554 KB)
PDF(4554 KB)
材料工程 ›› 2026, Vol. 54 ›› Issue (5) : 167-183.  DOI: 10.11868/j.issn.1001-4381.2025.000506  CSTR: 32421.14.j.issn.1001-4381.2025.000506
综述

SiCf/SiC复合材料残余应力的形成机制、表征技术及调控规律

    {{javascript:window.custom_author_cn_index=0;}}
  • {{article.zuoZhe_CN}}
作者信息 +

Formation mechanisms,characterization techniques,and regulation strategies of residual stress in SiCf/SiC composites

    {{javascript:window.custom_author_en_index=0;}}
  • {{article.zuoZhe_EN}}
Author information +
文章历史 +

本文亮点

{{article.keyPoints_cn}}

HeighLight

{{article.keyPoints_en}}

摘要

{{article.zhaiyao_cn}}

Abstract

{{article.zhaiyao_en}}

关键词

Key words

本文二维码

引用本文

导出引用
{{article.zuoZheCn_L}}. {{article.title_cn}}[J]. {{journal.qiKanMingCheng_CN}}, 2026, 54(5): 167-183 https://doi.org/10.11868/j.issn.1001-4381.2025.000506
{{article.zuoZheEn_L}}. {{article.title_en}}[J]. {{journal.qiKanMingCheng_EN}}, 2026, 54(5): 167-183 https://doi.org/10.11868/j.issn.1001-4381.2025.000506
中图分类号:

参考文献

参考文献

{{article.reference}}

基金

版权

{{article.copyrightStatement_cn}}
{{article.copyrightLicense_cn}}
PDF(4554 KB)

Accesses

Citation

Detail

段落导航
相关文章

/