磁控反应溅射制备GexC1-x薄膜的特殊性分析

宋建全, 刘正堂, 于忠奇, 耿东生, 郑修麟

材料工程 ›› 2000, Vol. 0 ›› Issue (10) : 15-17,21.

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材料工程 ›› 2000, Vol. 0 ›› Issue (10) : 15-17,21.
研究与应用

磁控反应溅射制备GexC1-x薄膜的特殊性分析

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The Analysis of Specialities of GexC1-x Films Prepared by RF Magnetron Reactive Sputtering

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