CVD法水蒸气条件下制备SiC块体

焦桓, 周万城, 李翔

材料工程 ›› 2000, Vol. 0 ›› Issue (12) : 12-14,18.

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材料工程 ›› 2000, Vol. 0 ›› Issue (12) : 12-14,18.
研究与应用

CVD法水蒸气条件下制备SiC块体

    {{javascript:window.custom_author_cn_index=0;}}
  • {{article.zuoZhe_CN}}
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Growth Rate and Deposition Process of SiC with Water Vapor Introduced by CVD

    {{javascript:window.custom_author_en_index=0;}}
  • {{article.zuoZhe_EN}}
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{{article.keyPoints_cn}}

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{{article.keyPoints_en}}

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{{article.zuoZheCn_L}}. {{article.title_cn}}[J]. {{journal.qiKanMingCheng_CN}}, 2000, 0(12): 12-14,18
{{article.zuoZheEn_L}}. {{article.title_en}}[J]. {{journal.qiKanMingCheng_EN}}, 2000, 0(12): 12-14,18
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{{article.reference}}

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{{article.copyrightStatement_cn}}
{{article.copyrightLicense_cn}}
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