退火温度对Si基Bi4Ti3O12铁电薄膜微观结构影响研究

王华, 于军, 王耘波, 倪尔瑚

材料工程 ›› 2002, Vol. 0 ›› Issue (11) : 29-31,47.

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材料工程 ›› 2002, Vol. 0 ›› Issue (11) : 29-31,47.
研究与应用

退火温度对Si基Bi4Ti3O12铁电薄膜微观结构影响研究

    {{javascript:window.custom_author_cn_index=0;}}
  • {{article.zuoZhe_CN}}
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Temperature Effects on Microstructure of Bi4Ti3O12 Ferroelectric Thin Films on Si Substrates

    {{javascript:window.custom_author_en_index=0;}}
  • {{article.zuoZhe_EN}}
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{{article.keyPoints_cn}}

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{{article.keyPoints_en}}

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{{article.zuoZheCn_L}}. {{article.title_cn}}[J]. {{journal.qiKanMingCheng_CN}}, 2002, 0(11): 29-31,47
{{article.zuoZheEn_L}}. {{article.title_en}}[J]. {{journal.qiKanMingCheng_EN}}, 2002, 0(11): 29-31,47
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{{article.reference}}

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