电场作用下AZ31B/Cu扩散界面的结构及性能

董凤, 陈少平, 胡利方, 樊文浩, 孟庆森

材料工程 ›› 2015, Vol. 43 ›› Issue (2) : 35-40.

PDF(2452 KB)
PDF(2452 KB)
材料工程 ›› 2015, Vol. 43 ›› Issue (2) : 35-40. 　DOI: 10.11868/j.issn.1001-4381.2015.02.006
材料与工艺

电场作用下AZ31B/Cu扩散界面的结构及性能

    {{javascript:window.custom_author_cn_index=0;}}
  • {{article.zuoZhe_CN}}
作者信息 +

Structure and Properties of AZ31B/Cu Diffusion Interface Under Electric Field

    {{javascript:window.custom_author_en_index=0;}}
  • {{article.zuoZhe_EN}}
Author information +
文章历史 +

本文亮点

{{article.keyPoints_cn}}

HeighLight

{{article.keyPoints_en}}

摘要

{{article.zhaiyao_cn}}

Abstract

{{article.zhaiyao_en}}

关键词

Key words

本文二维码

引用本文

EndNote

Ris (Procite)

Bibtex

导出引用
{{article.zuoZheCn_L}}. {{article.title_cn}}[J]. {{journal.qiKanMingCheng_CN}}, 2015, 43(2): 35-40 https://doi.org/10.11868/j.issn.1001-4381.2015.02.006
{{article.zuoZheEn_L}}. {{article.title_en}}[J]. {{journal.qiKanMingCheng_EN}}, 2015, 43(2): 35-40 https://doi.org/10.11868/j.issn.1001-4381.2015.02.006
中图分类号：

参考文献

列表( 原文顺序 | 文献年度倒序 | 文中引用次数倒序 ) 可视化分析

参考文献

{{article.reference}}

基金

版权

{{article.copyrightStatement_cn}}
{{article.copyrightLicense_cn}}
PDF(2452 KB)

Accesses

Citation

Detail
段落导航
相关文章

/

〈 〉