衬底材质对电镀铜膜应力影响

姜映宇, 史光华, 徐达, 王真

材料工程 ›› 2025, Vol. 53 ›› Issue (12) : 250-255.

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材料工程 ›› 2025, Vol. 53 ›› Issue (12) : 250-255.  DOI: 10.11868/j.issn.1001-4381.2024.000658  CSTR: 32421.14.j.issn.1001-4381.2024.000658
研究论文

衬底材质对电镀铜膜应力影响

    {{javascript:window.custom_author_cn_index=0;}}
  • {{article.zuoZhe_CN}}
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Effect of substrate material on stress of electroplated copper film

    {{javascript:window.custom_author_en_index=0;}}
  • {{article.zuoZhe_EN}}
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{{article.keyPoints_cn}}

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{{article.zhaiyao_cn}}

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{{article.zhaiyao_en}}

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{{article.zuoZheCn_L}}. {{article.title_cn}}[J]. {{journal.qiKanMingCheng_CN}}, 2025, 53(12): 250-255 https://doi.org/10.11868/j.issn.1001-4381.2024.000658
{{article.zuoZheEn_L}}. {{article.title_en}}[J]. {{journal.qiKanMingCheng_EN}}, 2025, 53(12): 250-255 https://doi.org/10.11868/j.issn.1001-4381.2024.000658
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{{article.reference}}

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{{article.copyrightStatement_cn}}
{{article.copyrightLicense_cn}}
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