反应溅射GeXC1-X薄膜的沉积速率

刘正堂, 朱景芝, 宋建权, 郑修麟

材料工程 ›› 1998, Vol. 0 ›› Issue (2) : 6-8.

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材料工程 ›› 1998, Vol. 0 ›› Issue (2) : 6-8.
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反应溅射GeXC1-X薄膜的沉积速率

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Deposition Rate of GeXC1-X Films Prepared by Reactive Sputtering

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